Remerciez-le!

Remerciez @Admin pour avoir partagé cet document gratuitement, de la manière la plus simple, en partageant sur les réseaux sociaux.

chapitre 2 Chapitre Méthode d ? élaboration et techniques de caractérisations Sommaire II Méthode expérimentale II Dispositif expérimental utilisé II Préparation des substrats ?? ?? Bain d ? électrodéposition II Techniques d ? élaboration électrochimique

Chapitre Méthode d ? élaboration et techniques de caractérisations Sommaire II Méthode expérimentale II Dispositif expérimental utilisé II Préparation des substrats ?? ?? Bain d ? électrodéposition II Techniques d ? élaboration électrochimique II Voltamétrie cyclique VC II Chronoampérométrie CA III Techniques de caractérisations III Microscopie électronique à balayage MEB Références bibliographiques CChapitre II Méthode d ? élaboration et techniques de caractérisations Chapitre ?? ?? Méthode d ? élaboration et techniques de caractérisations Ce deuxième chapitre est entièrement consacré à la description des matériaux des dispositifs et des di ?érentes techniques utilisés lors de la déposition électrochimique des couches minces de Cu O sur ITO II Méthode expérimentale II Dispositif expérimental utilisé Le dispositif expérimental utilisé est représenté sur la ?gure II il est constitué essentiellement d ? un Potentiostat Galvanostat VoltaLab - PGZ piloté par un ordinateur à l ? aide du logiciel VolaMaster une cellule électrochimique à trois électrodes reliée au VoltaLab et un bain thermostat permettant le contrôle de la température lors des expériences Figure II Montage expérimental utilisé CChapitre II Méthode d ? élaboration et techniques de caractérisations La cellule électrochimique à trois électrodes utilisée est constituée de Electrode de référence Cette électrode est constituée par un ?l d ? argent enrobé d ? une couche de chlorure d ? argent AgCl solide peu soluble dans l ? eau immergé dans une solution aqueuse dz chlorure de potassium Electrode auxiliaire anode ou contre électrode C ? est une plaque en platine Pt Electrode de travail cathode Les substrats utilisés sont en verre recouvert d ? une couche semi-conductrice d ? étain dopé par l ? indium ITO Figure II cellule électrochimique CChapitre II Méthode d ? élaboration et techniques de caractérisations Dans une cellule électrochimique à trois électrodes le courant circule entre l'électrode de travail et l'électrode auxiliaire et le potentiel est imposé entre l'électrode de travail et l'électrode de référence Pour réaliser le processus d ? électrodéposition de l ? oxyde de cuivre nous avons utilisé des électrodes ?xes montées verticalement II Préparation des substrats Avant de tremper les substrats dans la solution les substrats d ? ITO sont soigneusement nettoyés puis plongées dans la solution Ils sont nettoyés selon le protocole suivant Les étapes utilisées pour le nettoyage des substrats Nettoyage dans un bain d'acétone soumis à des ultrasons pendant min Pendentif Un rinçage dans l'eau distillée min Pendentif Un nettoyage dans l'éthanol min Essuyage de substrat avec du papier spécial Séchage des substrats à l'air ?? ?? Bain d ? électrodéposition Le bain électrolytique et les conditions utilisées pour l ? élaboration les couches de Cu O est composé comme suivant Tableau II Caractéristiques des produits chimiques commerciaux utilisés Composition du bain Conductions expérimentales CuSo C H O NaOH Température PH Cathode Anode M M M ITO Pt CChapitre II Méthode d ? élaboration et techniques de caractérisations II Techniques d ? élaboration électrochimique Les techniques électrochimiques retenues pour mener à bien ce travail sont la voltammétrie Cyclique et la chronoampérométrie II Voltamétrie